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      大束流離子注入機顆粒改善
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      • 點(diǎn)擊數:1155     發(fā)布時(shí)間:2018-07-28 19:06:15
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      作者:楊怡,陳果(杭州士蘭集昕微電子有限公司,浙江 杭州 310000)

      摘要:大束流離子注入機是半導體行業(yè)中一種十分重要的設備,在生產(chǎn)過(guò)程中,影響注入機產(chǎn)品良率和產(chǎn)能的關(guān)鍵因素是顆粒的多少。大束流離子注入機采用靶盤(pán)式結構,腔體空間大,腔體內真空度相較于中束流離子注入機低,束流路徑大,因此產(chǎn)生顆粒的幾率更大。本文先分析了大束流離子注入機顆粒產(chǎn)生的原因,然后提出了氣體傳導率限制縫和鋸齒石墨兩種減少顆粒的結構設計,并進(jìn)行了實(shí)驗驗證,最后給出了顆粒偏高后查找顆粒源的幾種方法。

      關(guān)鍵詞:離子注入機;顆粒減少;氣體傳導率限制縫;鋸齒石墨;顆粒源

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      摘自《自動(dòng)化博覽》2018年7月刊

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