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光刻機行業(yè)報告：從0到1，星辰大海

點(diǎn)擊數：745 發(fā)布時(shí)間：2023-04-12 19:36:36
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光刻機是芯片制造中最復雜、最昂貴的設備。芯片制造可以包括多個(gè)工藝，如初步氧化、涂光刻膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入。這個(gè)過(guò)程需要用到的設備種類(lèi)繁多，包括氧化爐、涂膠顯影機、光刻機、薄膜沉積設備、刻蝕機、離子注入機、拋光設備、清洗設備和檢測設備等。在整個(gè)半導體芯片制造過(guò)程中，光刻是最復雜工藝，光刻工藝的費用約占芯片制造成本的1/3左右，耗費時(shí)間占比約為40-50%，光刻工藝所需的光刻機是最貴的半導體設備。

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