高純凈水系統集成氧化還原電位測量能力以減少腐蝕
中國,北京,2010年2月9日-霍尼韋爾(NYSE:HON)今日宣布為其HPW7000 高純凈水測量系統增加氧化還原電位(ORP)測量功能,氧化還原電位是針對降低諸如渦輪和管道等電廠(chǎng)設備腐蝕的關(guān)鍵參數,這將幫助工廠(chǎng)更加有效地維護關(guān)鍵設備,降低資產(chǎn)支出并減少化學(xué)品使用。
HPW7000廣泛應用于市政鍋爐供水系統以及使用自備電廠(chǎng)的大型生產(chǎn)企業(yè)。其特別設計的流室以及電極安裝已經(jīng)應用了超過(guò)10年以簡(jiǎn)化安裝和校準,并提供高精度PH值讀數。新增的氧化還原電位電極能夠為工廠(chǎng)化學(xué)工程師、工廠(chǎng)經(jīng)理、維護工程師以及安全和可靠性工程師在高純凈水系統(水樣本電導率低于10 uS/cm)中提供更加精準的氧化還原程度的界面。
霍尼韋爾全球產(chǎn)品市場(chǎng)經(jīng)理托馬斯·格里菲斯(Thomas Griffiths)指出:“在這些應用中,可靠的氧化還原電位程度測量在過(guò)去是非常復雜的,但如果工廠(chǎng)能夠使用這些數據來(lái)保持供水系統中最優(yōu)反應物程度的話(huà),將有效降低腐蝕。集成氧化還原電位技術(shù)到HPW7000易用設計之中,將最終減少維護需求并提升工廠(chǎng)正常運轉時(shí)長(cháng)。”