來(lái)源:中國儀表網(wǎng)
光學(xué)元件作為與光學(xué)研究息息相關(guān)的儀器儀表,影響著(zhù)社會(huì )生活中的方方面面。據中科院光電技術(shù)研究所(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“光電所”)消息,近日,為保障大口徑反射元件的發(fā)射率的準確測量,光電所基于測試技術(shù)平臺的基礎,在大口徑反射光學(xué)元件高反射率均勻性測試研究中取得重大突破。
由光學(xué)鍍膜完成的大口徑反射光學(xué)元件光譜(反射率)非均勻性作為重要的技術(shù)參數,對于其測量準確度要求極高。只有滿(mǎn)足一定的的技術(shù)要求才能運用在系統中,以達到保障反射光學(xué)的質(zhì)量,滿(mǎn)足系統正常運行的目標。
據悉,此項測試技術(shù)由光電所薄膜光學(xué)測試研究團隊提供測試技術(shù)平臺,主要技術(shù)突破在于實(shí) 現了大口徑反射元件反射率分布的二維高分辨成像測量。同時(shí),也可提供反射率測量的時(shí)間指數衰減擬合曲線(xiàn)和鏡面反射率掃描的三維測試結果。而該測試裝置也為 大口徑光學(xué)元件反射率評估和優(yōu)化提供了重要技術(shù)支持,助力我國光學(xué)元件產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展。
此研究項目得到了中科院的項目資助,研究成果發(fā)布引發(fā)了產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注。