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      中國科學(xué)家自主研制成功新型光刻機 取得專(zhuān)利20余項
      • 點(diǎn)擊數:2823     發(fā)布時(shí)間:2016-03-25 10:23:00
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      來(lái)源:新華社

      新華社成都3月23日電記者23日從中科院光電技術(shù)研究所獲悉,該所微電子專(zhuān)用設備研發(fā)團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。

      據中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹,該所自主研發(fā)的新型光刻機,將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術(shù),與具有低成本、高效率特點(diǎn)的紫外光刻技術(shù)有機結合。

      記者了解到,這套設備采用新型納米對準技術(shù),將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。對準是光刻設備三大核心指標之一,是實(shí)現功能化器件加工的關(guān)鍵。該所在國家自然基金的連續資助下,完成基于莫爾條紋的高精度對準技術(shù)自主研發(fā),取得專(zhuān)利20余項。

      “該技術(shù)在光刻機中的成功應用突破了現有納米尺度結構加工的瓶頸問(wèn)題,為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障?!焙烧f(shuō)。

      據悉,該設備可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學(xué)元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結構器件的制備,具有廣闊的應用前景,目前已完成初試和小批生產(chǎn),并已在高校與企業(yè)用戶(hù)中推廣。


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