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日本東北大學(xué)大學(xué)院工學(xué)研究科納米力學(xué)專(zhuān)業(yè)閻紀旺準教授及廚川常元教授的研究小組利用納秒脈沖激光照射，成功完成了單晶硅加工變質(zhì)層的完全修復。這是一種通過(guò)使用高頻納秒脈沖激光，同時(shí)完全消滅單晶硅加工物表面的非結晶層的單晶化和位錯的方法。該方法有以下四個(gè)特征。（1）由于絲毫不剔除材料，底板的形狀精度可維持原樣；（2）可使用高頻納秒脈沖激光器在極短時(shí)間內修復；（3）完全不排放化學(xué)廢液，是對環(huán)境無(wú)負面影響的清潔技術(shù)；（4）能夠用于形狀復雜的工件，進(jìn)行局部選擇性修復和表面構成控制。
該方法可以使生成無(wú)缺陷的單結晶表面成為可能，有望在半導體底板及光學(xué)元件領(lǐng)域，實(shí)現新的制造工藝。是東北大學(xué)機械系研究的文部科學(xué)省21世紀COE項目之一――“納米技術(shù)基礎機械科學(xué)新領(lǐng)域”（項目負責人：莊子哲雄教授）的綜合研究項目之一，部分研究得到了新能源產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合開(kāi)發(fā)機構（NEDO）產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究資助事業(yè)的幫助。研究成果的一部分已在國際學(xué)術(shù)雜志《半導體科學(xué)與技術(shù)（SemiconductorScienceandTechnology）》上刊登。
北京市公安局海淀分局備案號：11010802023656號